原理：

在密闭真空腔体环境中，先通过真空机组将腔体抽至 30Pa 的额定工作真空度，再通过 MFC 气体质量流量计精准通入氧气、氩气等工艺气体；同时等离子电源激发高压电场，使腔体内部的工艺气体发生电离，形成由离子、电子、活性自由基、中性粒子等组成的低温等离子体。等离子体通过物理轰击 + 化学反应双重作用，实现对工件表面的超精细处理：物理层面，高能粒子对工件表面的油污、粉尘、氧化层、残留助焊剂等污染物进行溅射剥离；化学层面，活性自由基与表面有机污染物发生反应，生成 CO₂、H₂O 等气态小分子，最终通过真空排气系统排出腔体。整个处理过程在常温下完成，无基材热损伤，可实现无残留的纳米级清洁，同时活化基材表面，大幅提升后续派瑞林镀膜的膜层附着力与均匀性，是保障镀膜品质的关键工序。

设备规格

设备特点

1. 真空等离子处理，设计合理，性能稳定，效率大大提升；
2. 该设备设计操作安全保护系统,为避免操作人员受到伤害,体现贵公司的人文价值理念；
3. 该设备设计有故障自诊系统,若有故障发生时系统自动报警通知操作人员,
4. 并提供数据快速解决,提高工作效率；
5. 控制电柜嵌入设备，设备整体简洁美观。

设备安装

• 接电源线时，必须要接地线。
• 主气源进气，气体1、气体2、气体3、压缩空气；∅10的气管。
• 确定安装位置后，调整好脚杯的高度，使得设备位于水平面。
• 检查无误后，可以开电启动设备。

设备生产选配气体

1. 清洁的干空气
2. 氮气
3. 氩气
4. 氧气
5. 二氧化碳
6. 氦气